Direktgold

 Verfahren

  • außenstromlose Abscheidung von Gold direkt auf Kupfer

 

Empfohlener Schichtaufbau

  • Empfohlene Schichtdicke: 0,1 µm – 0,3 µm

 

Optisches Aussehen

  • metallisch goldfarben

 

Eigenschaften

  • Hervorragende Al-, Au-, Cu- (Pd beschichtet) und Ag- Drahtbondbarkeit
  • Hohe Lötstellenzuverlässigkeit (SJR) durch geringe Voidbildung
  • Ausgezeichnete Haftung der Schicht auf der Cu- Oberfläche
  • Begrenzt einsetzbar für Abhebekontakte und Steckerkontakte
  • Wird den hohen Anforderungen der (ultra) Feinstrukturierbarkeit und der hohen Performance beim Löten und Drahtbonden gerecht
  • Duktiler Überzug => kompatibel für Flex- Leiterplattenanwendungen
  • hohe HF – Tauglichkeit der Abscheidungen
  • Niedrige Beschichtungskosten durch wenige Prozess-Schritte

 

Einsatzgebiete

  • Maschinenbau
  • Elektronik
  • Leiterplatte
  • Fahrzeugbau

 

Grundwerkstoffe

  • Kupfer
  • FR4, Rogers, etc.

Fertigungsmöglichkeiten: